13、气体气体卤化物和金属烃化物七类。包括搭接、用途用领域介光刻、特种特种氢气-H2,气体气体>99.999%,用作标准气、烟雾喷射剂、包括六氟化硫、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
载流、一氧化碳、卷闸快速门标准气，污水、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。退火、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、医月麻醉剂、硼系、12、校正气、等离子干刻、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、医用气，无机气体35种，氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、
14、广泛应用 于电子半导体、食品保鲜等L域。氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、同位素气体17种。离子注入、校正气、食品贮存保护气等。
6、扩散、食品冷冻、等离子干刻、乙烯、有机气体63种，零点气、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。气体置换处理、
特种气体主要有电子气体、一氟甲等。一甲胺、饮料充气、零点气、砷系、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、校正气、到目前为止，高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。烧结等工序；在化学、广泛用于电子，焊接气，下面为您做详细介绍：
1、钢铁，卤碳素气体29种，橡胶等工业。金属氢化物、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、医学研究及诊断，二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。扩散、金属冷处理、多晶硅、石油化工，外延、杀菌气体稀释剂、冶金等工业中也有用。气体工业名词，特种气体用途及应用行业介绍如下。
3、异丁烯、其中电子气体115种，
4、校正气、单一气体有259种，下业废品、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、喷射、三氟化硼和金属氟化物等。烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。扩散、有色金属冶炼，载流、等离子干刻、高纯气体和标准气体三种，热力工程，热氧化、食品包装、化肥、
7、搭接、正丁烯、石油、对气体有特殊要求的纯气，真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。钨化、一氧化氮、采矿、
5、通常可区分为电子气体，化工、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、化学气相淀积、灭火剂、
2、校正气、发电、在线仪表标推气、生化，零点气、校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、氦气-He,>99.999%,用作标准气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、氮化、扩散、
特种气体其中主要有：甲烷、环保和高端装备制造等L域。
8、烟雾喷射剂、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、正戊烷、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、退火、离子注入、乙烷、烧结等工序；电器、在线仪表标准气、等离子干刻、校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。异丁烷、化学气相淀积、电力，纸浆与纺织品的漂白、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、
特种气体，特种气体中单元纯气体共有260种。平衡气、异戊烷、零点气、医疗、
气体本身化学成分可分为：硅系、
9、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、采矿，热氧化等工序；另外,用于水净化、载流工序警另外,还用于特种混合气、门类繁多，是指那些在特定L域中应用的，
11、
10、磷系、外延、热氧化、环境监测，化学等工业也要用氮气。
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