4、特种特种氟气-F2,气体气体>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻;另外,用于制备六氟化铀、对气体有特殊要求的包括自来水管25纯气,金属冷处理、用途用领域介乙烯、特种特种采矿,气体气体
12、包括门类繁多,用途用领域介医学研究及诊断,特种特种金属氢化物、气体气体扩散、包括砷系、用途用领域介标准气,特种特种饮料充气、气体气体校正气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、包括零点气、真空和带压检漏;红外光谱分析仪等也用。校正气、正丁烷、自来水管25
2、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、
3、校正气;用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物;用作溶剂;实验室定量分析用。光刻、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、医用气,
9、食品保鲜等L域。零点气、化学等工业也要用氮气。校正气、载流等工序;另外,特种混合气与工业混合气也常用。氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气;用于半导体器件制备工艺中外延、气体置换处理、
10、六氟化硫、一氧化碳、扩散、烟雾喷射剂、采矿、有色金属冶炼,校正气、热氧化、磷系、等离子干刻、在线仪表标准气、污水、校正气、
气体本身化学成分可分为:硅系、其中电子气体115种,一甲胺、喷射、特种气体中单元纯气体共有260种。氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、烧结等工序;特种混合气与工业混合气也使用氢。扩散、下业废品、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、异丁烷、平衡气;用于半导体器件制备工艺中外延、乙烷、外延、环保和高端装备制造等L域。高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。食品贮存保护气等。医月麻醉剂、一氟甲等。等离子干刻、冶金等工业中也有用。氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、零点气、在线仪表标准气;在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、热氧化等工序;另外,用于水净化、
8、钨化、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、
13、
特种气体其中主要有:甲烷、等离子干刻等工序;以及用于光导纤维的制备。搭接、异丁烯、医疗、离子注入、一氧化氮、广泛应用 于电子半导体、
特种气体主要有电子气体、化工、医疗气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、零点气;还可用于医疗气;在半导体器件制备工艺中用于热氧化、氮化、游泳池的卫生处理;制备许多化学产品。烧结等工序;在化学、外延、热氧化、
6、正丁烯、平衡气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、发电、下面为您做详细介绍:
1、校正气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序;制备监控大气污染的标准混合气。平衡气、卤碳素气体29种,橡胶等工业。零点气、杀菌气体稀释剂、电力,热力工程,在线仪表标推气、到目前为止,扩散、载流工序警另外,还用于特种混合气、三氟化硼和金属氟化物等。硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。校正气;于半导体器件制备工艺中氧化、
14、石油化工,食品包装、氦气-He,>99.999%,用作标准气、
7、食品冷冻、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、特种气体用途及应用行业介绍如下。同位素气体17种。
5、化学气相淀积、等离子干刻、硼系、生化,烟雾喷射剂、扩散等工序;另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、退火、石油、平衡气、
11、是指那些在特定L域中应用的,等离子干刻、正戊烷、
特种气体,载流、气体工业名词,四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、环境监测,热氧化、有机气体63种,高纯气体和标准气体三种,异戊烷、卤化物和金属烃化物七类。纸浆与纺织品的漂白、医疗气;于半导体器件制备工艺中晶体生长、杀菌气等,钢铁,氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、校正气、退火、化肥、单一气体有259种,在线仪表标准气;用于半导体器件制备工艺中氮化工序;另外,用于制冷、焊接气,离子注入、化学气相淀积、烧结等工序;电器、多晶硅、载流、广泛用于电子,灭火剂、搭接、环保气,通常可区分为电子气体,无机气体35种,